本公司原位加熱樣品臺由樣品臺，控制器，以及計算機軟件程序等構成，該設備使用四電極法閉合回路控制及反饋環境溫度以消除接觸電阻影響。可用于電鏡樣品在不同的高溫條件下的結構表征。
 

　　原位加熱樣品臺主要在低維材料、納米技術、材料工程、能源材料及軟物質等研究領域中廣泛應用。
 

　　產品特點：
 

　　● 快速實現溫度/樣品的穩定
 

　　● 準確的溫度測量
 

　　● 樣品制備簡單易行
 

　　● 超高的溫度精度及溫度均勻性
 

　　性能規格
 

　　● 工作溫度范圍: 室溫到1100℃(普通芯片)；室溫到1300℃(高溫芯片)
 

　　● 加熱方式：四電極法閉合回路控制及反饋環境溫度
 

　　● 溫度精度：< 5 %
 

　　● 溫度穩定性：< 0.01 °C
 

　　● 加熱速率：200℃/ms
 

　　● 溫度設定時間：< 2s
 

　　● 樣品漂移：溫差1000℃時，< 200nm
 

　　● 轉角范圍：單傾；雙傾；三維重構
 

　　● 分辨率：不低于電鏡室溫分辨率